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• 作者: 萬川知識產(chǎn)權(quán)
• 來源: 中國知識產(chǎn)權(quán)資訊網(wǎng)
• 日期: 2016-12-23
• 瀏覽次數(shù): 764次

經(jīng)過數(shù)年的技術(shù)創(chuàng)新，集成電路已從最初的每個芯片上只有數(shù)個器件發(fā)展到現(xiàn)在的每個芯片上可包含約10億個器件，光刻技術(shù)功不可沒。如今，一臺國際先進(jìn)的光刻設(shè)備售價就超過1億美元。為此，跨國公司不斷在中國對光刻技術(shù)專利“跑馬圈地”，為爭奪巨大的中國市場展開專利攻防戰(zhàn)。

　　2008年7月，國家知識產(chǎn)權(quán)局就株式會社尼康（下稱尼康公司）通過《專利合作條約》（PCT）途徑，提交的名為“投影光學(xué)系統(tǒng)、曝光裝置及曝光方法”的發(fā)明專利申請（專利號：ZL200480012069.0）發(fā)布授權(quán)公告，優(yōu)先權(quán)日分別是2003年5月6日、2003年10月9日以及2003年10月24日。針對這件發(fā)明專利，2013年9月，德國卡爾蔡司SMT股份公司（下稱蔡司公司）向國家知識產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委員會（下稱專利復(fù)審委員會）提出無效宣告請求。近期，專利復(fù)審委員會審查后宣告涉案專利的部分專利權(quán)無效。

　　有專家分析，大力發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)是我國的一項國家戰(zhàn)略，本案所涉及的光刻技術(shù)是迅猛發(fā)展的大規(guī)模集成電路技術(shù)的核心工藝，其市場價值極大。無效宣告請求人與專利權(quán)人均為光學(xué)行業(yè)跨國公司巨頭，兩巨頭之間掀起的專利戰(zhàn)，體現(xiàn)了光刻技術(shù)領(lǐng)域的激烈競爭以及雙方對中國市場的重視。

　　技術(shù)創(chuàng)新推動行業(yè)進(jìn)步

　　尼康公司和蔡司公司此次專利戰(zhàn)涉及的光刻技術(shù)是一項具有極大市場價值的核心工藝。那么，這究竟是一項怎樣的技術(shù)？

　　公開資料顯示，光刻技術(shù)是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù)。其主要過程為，首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面，引起曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)；再通過顯影技術(shù)溶解去除曝光區(qū)域或未曝光區(qū)域的光刻膠（前者稱正性光刻膠，后者稱負(fù)性光刻膠），使掩膜版上的圖形被復(fù)制到光刻膠薄膜上；最后利用刻蝕技術(shù)將圖形轉(zhuǎn)移到基片上。簡言之，光刻技術(shù)就是在集成電路制造中，利用光學(xué)、化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。

　　如此重要的技術(shù)，其主要用途是什么？集成電路在制造過程中會經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、清洗、刻蝕、化學(xué)機(jī)械拋光等多個工序，其中尤以光刻工藝最為關(guān)鍵，這決定著制造工藝的先進(jìn)程度。具體來說，光刻技術(shù)大致從3個方面為集成電路技術(shù)的進(jìn)步提供了保證：第一是大面積均勻曝光，在同一塊硅片上同時做出大量器件和芯片，保證了批量化的生產(chǎn)水平；第二是圖形線寬不斷縮小，生產(chǎn)成本持續(xù)下降；第三，由于線寬的縮小，器件的運(yùn)行速度越來越快，產(chǎn)品性能不斷提高。不少專家都認(rèn)為，集成電路從上世紀(jì)60年代的每個芯片上僅幾十個器件發(fā)展到現(xiàn)在的每個芯片上可包含約10億個器件，半導(dǎo)體技術(shù)的集成度逐年提高，光刻技術(shù)功不可沒。

　　記者在采訪中了解到，在光刻技術(shù)中，光刻機(jī)又是這項工藝的核心部分。光刻機(jī)是一種曝光工具，其造價昂貴，號稱全球最精密的儀器之一，目前世界上最先進(jìn)的光刻機(jī)售價已超過1億美元。由于制造難度大，目前只有尼康公司等少數(shù)幾家公司能夠制造光刻機(jī)。值得一提的是，經(jīng)過多年的技術(shù)創(chuàng)新和研發(fā)，我國光刻機(jī)制造取得了突破性進(jìn)展。今年年初，中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊自主研發(fā)成功的紫外納米壓印光刻機(jī)，其成本僅為國外同類設(shè)備的三分之一，這套設(shè)備采用新型納米對準(zhǔn)技術(shù)，將原光刻設(shè)備的對準(zhǔn)精度由亞微米量級提升至納米量級，使我國微納實用制造水平邁上了新的臺階。

　　光刻技術(shù)專利引發(fā)爭議

　　成立于1917年的尼康公司，不僅是全球知名的相機(jī)制造商，其還是分步重復(fù)半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備（分檔器）的制造商，公司還生產(chǎn)護(hù)目鏡、眼科檢查設(shè)備、雙筒望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、勘測器材等。作為全球主要的能夠制造商用光刻機(jī)的公司之一，尼康公司推出的G-line、I-line步進(jìn)式光刻機(jī)、投影式光刻機(jī)在全球晶圓廠大量使用。2008年7月，尼康公司在中國提交的上述發(fā)明專利申請獲得授權(quán)。

　　作為全球知名光學(xué)系統(tǒng)、工業(yè)測量儀器和醫(yī)療設(shè)備制造企業(yè)，蔡司公司在光學(xué)及光電子學(xué)領(lǐng)域同樣處于全球領(lǐng)先地位。針對上述專利權(quán)，2013年9月，蔡司公司向中國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利復(fù)審委員會提出無效宣告請求。經(jīng)形式審查合格，專利復(fù)審委員會依法受理了上述無效宣告請求，并成立合議組。

　　該案合議組成員在接受本報記者采訪時表示，涉案專利權(quán)利要求包含35項，請求人提出的無效理由涉及大多數(shù)無效條款，比如，專利法第三十三條、專利法實施細(xì)則第二十條第一款、專利法第二十六條第四款、專利法實施細(xì)則第二十一條第二款、專利法第二十二條第二款、專利法第二十二條第三款等。此外，該案涉及證據(jù)30余份，雙方還邀請了國內(nèi)一流大學(xué)的知名學(xué)者作為專家證人，德、日公司外籍代表全程參加庭審。

　　記者在采訪中了解到，由于此案案情錯綜復(fù)雜，存在諸多疑難法律問題?？趯徍臅r3天，合議組面對庭審中的新問題，一一化解，抓住本案焦點問題，進(jìn)行了全面、深入和詳細(xì)的調(diào)查?？趯徑Y(jié)束后，合議組對口審調(diào)查中的爭議所涉及的相關(guān)技術(shù)作了進(jìn)一步深入了解和研究，確保能夠正確把握所屬領(lǐng)域技術(shù)人員能力和水平，對該案進(jìn)行了公正的審理。

　　該案合議組成員告訴本報記者，涉案專利和對比文件分別是否享有優(yōu)先權(quán)是決定該案結(jié)論的關(guān)鍵，并最終以部分權(quán)利要求不具備新穎性或創(chuàng)造性為理由作出了涉案專利的專利權(quán)部分無效的審查決定。

　　該案合議組成員表示，該案亮點在于對涉案專利及對比文件的優(yōu)先權(quán)核實，本專利具有3個優(yōu)先權(quán)日，相關(guān)優(yōu)先權(quán)核實部分厘清了相同主題的發(fā)明或者實用新型的判斷標(biāo)準(zhǔn)，即如何判斷在后申請中各項權(quán)利要求所述的技術(shù)方案是否清楚地記載于在先申請的說明書和權(quán)利要求中，其中結(jié)合權(quán)利要求1與對比文件10的對比特別提出如果在先申請對某一或某些技術(shù)特征只是含糊的闡述或者暗示，而在后申請增加了對此技術(shù)特征的詳細(xì)敘述，使得本領(lǐng)域技術(shù)人員不能從在先申請直接、毫無疑義地確定，則在先申請不能作為在后申請要求優(yōu)先權(quán)的基礎(chǔ)，具有指導(dǎo)意義。